日本传来重磅消息！
据媒体消息，近日，东京警视厅逮捕了位于茨城县筑波市的国立研究开发法人产业技术综合研究所（AIST）的中国籍高级主任研究员权恒道（59 岁）。产业技术综合研究所，是日本国内研究尖端技术的最大规模研究机构。权恒道涉嫌泄露研究数据，他是该研究所领域研究小组中的中心人物。
据警视厅公安部介绍，权恒道于2018年4月13日下午4点半左右，将氟化合物合成的相关研究数据，通过电子邮件发送给了一家境外企业，涉嫌违反《反不正当竞争法》。该企业是生产化学制品的公司，在日本国内也有代理公司。
近期，日本和韩国都有动作。据韩国检方6月12日发表声明，一名三星电子的前高管遭到起诉，罪名是涉嫌窃取该公司的技术以在境外建立“山寨版”芯片工厂。
权恒道被抓
日本多家媒体报道称，15日一名中国籍研究员被日本警方逮捕。逮捕的理由是“违法向境外企业偷送尖端技术”。据悉，这名研究员叫权恒道，现年59岁。
据日本警视厅公安部介绍，权自2002年起在该研究所担任研究员。他在2018年4月13日下午4点半左右，将氟化合物合成的相关研究数据，通过电子邮件发送给了一家境外企业，涉嫌违反《反不正当竞争法》。该企业是生产化学制品的公司，在日本国内也有代理公司。
本次开发的氟化合物合成技术，是用于生成变压器等高绝缘性气体的先进技术，也与防止全球变暖有关。公安部认定权恒道涉嫌泄露的信息属于商业秘密。
6月15日，警视厅公安部搜查了其住宅等相关地点，没收了资料等。产业技术综合研究所方面向警视厅告知情况，称蒙受了损失。产业技术综合研究所称：研究所工作人员因涉嫌违反《反不正当竞争法》被捕，深感遗憾。我们将全力配合警方的调查，严肃处理。
对于警方的调查，权恒道否认指控，称“我可能给公司发过邮件”，但是邮件内容不构成商业秘密。
6月16日，日本经济产业大臣西村在内阁会议结束后的例行记者会上表示：非常遗憾，以此种形式出现逮捕者。今后将探讨如何加强保护信息安全的措施。
内阁官房长官松野在当日例行记者会上，也谈及此事。“我知道产综研一直以来都在整备与信息管理有关的组织体制与规则，但从结果上来说，这次有人被逮捕了，深表遗憾。”他表示，对接触机密信息的人采取认定制度，日本政府将组织有识之士对导入该制度进行讨论。
去年，日本全国公安机关破获侵犯商业秘密案件29起，是2013年开始统计以来的最高值。所谓商业秘密，包括独立开发的技术信息和客户数据等。
日本、韩国动作频频
环球网引述日本经济新闻的报道称，高端技术情报被透露到国外的事件，近年来在日本层出不穷。其列举的两个例子，一个是“2020年1月，在俄罗斯外交官的要求下，软银一员工因涉嫌携带与通信设备相关的机密信息而被警视厅逮捕，同年7月，东京地方法院宣判其有罪”。
另一个是“2021年，积水化学工业一员工因向境外企业泄露智能手机使用的技术机密信息，而遭到起诉，之后被判有罪”。
日本法律将企业或组织中的核心技术上或经营上的重要信息，定义为“营业秘密”，禁止非法取得。一旦违反，将被判处10年以下有期徒刑或2000万日元以下的罚款。
韩国也有动作。据韩国检方6月12日发表声明，一名三星电子的前高管遭到起诉，罪名是涉嫌窃取该公司的技术以在境外建立“山寨版”芯片工厂。韩国水原地方检察院表示，这位三星电子前高管涉嫌违反《产业技术保护法》和《不正当竞争防止法》。
他被指控于2018年至2019年期间，“以不当手法获取并使用三星电子半导体工厂基本工程数据、工艺流程图、设计图等信息”。涉案技术为用于制造30纳米以下动态随机存取存储器（DRAM）和闪存芯片（NAND）的制程工艺，属于国家关键技术。
此前，美国FBI的“中国行动”计划就起诉了不少华裔美国学者、科学家，指控他们向中国转移高科技机密，但大部分最后都被证明是小题大做或者子虚乌有。美、日、韩的这些动作亦可视为半导体领域“围堵中国”的部分行动，意在制造紧张气氛，敲打各大与中国合作的企业。
